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हौहाई मेटल मेट्रीयरियल्स कं, लिमिटेड

Haohai टाइटेनियम कं, लिमिटेड


पता:

प्लांट नं। 9, टसपार्क, सेंचुरी एवेन्यू,

Xianyang शहर, शानक्सी प्रो।, 712000, चीन


टेलीफोन:

+86 29 3358 2330

+86 29 3358 2349


फैक्स:

+86 29 3315 9049


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info@pvdtarget.com

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सेवा हॉटलाइन
029 3358 2330

वैनेडियम स्पटरिंग लक्ष्य, उच्च शुद्धता, अखंड, रोटेटेबल, रोटरी, बेलिंडाल, प्लैर, कैथोडिक आर्क, पीवीडी कोटिंग, पतली फिल्म बयान, मैग्नेट्रोन वी स्पटरिंग लक्ष्य

हाउई उच्च शुद्धता वाले वॅनेडियम स्पटरिंग लक्ष्य को उच्चतम संभव घनत्व और अर्धचालक, भौतिक वाष्प जमाव (पीवीडी) डिस्प्ले और ऑप्टिकल अनुप्रयोगों में उपयोग के लिए न्यूनतम संभव औसत अनाज आकार के साथ उत्पादन करने में माहिर है। पतली फिल्म के लिए हमारे वानडियम स्पटरिंग लक्ष्य उपलब्ध हैं मोनोब्लॉक रोटरी, प्लानर लक्ष्य या विभिन्न आकारों और आयामों के साथ प्लानर लक्ष्य के साथ बंधुआ।

उत्पाद विवरण


VANADIUM SPUTTERING TARGET


वानडियम एक नरम और नमनीय, चांदी-ग्रे धातु है। यह क्षार, सल्फ्यूरिक और हाइड्रोक्लोरिक एसिड द्वारा जंग के लिए अच्छा प्रतिरोध है। यह लगभग 9 33 के (660 सी) में आसानी से ऑक्सीडिज करता है। वैनिडियम में अच्छा संरचनात्मक ताकत और कम विखंडन न्यूट्रॉन क्रॉस सेक्शन है, जिससे यह परमाणु अनुप्रयोगों में उपयोगी हो सकता है। यद्यपि एक धातु, यह क्रोमियम और मैंगनीज के साथ एसिड गुणों के साथ औक्सिड होने की संपत्ति के साथ साझा करता है।

 

हाउई उच्च शुद्धता वाले वॅनेडियम स्पटरिंग लक्ष्य को उच्चतम संभव घनत्व और अर्धचालक, भौतिक वाष्प जमाव (पीवीडी) डिस्प्ले और ऑप्टिकल अनुप्रयोगों में उपयोग के लिए न्यूनतम संभव औसत अनाज आकार के साथ उत्पादन करने में माहिर है। पतली फिल्म के लिए हमारे वानडियम स्पटरिंग लक्ष्य उपलब्ध हैं मोनोब्लॉक रोटरी, प्लानर लक्ष्य या विभिन्न आकारों और आयाम के साथ प्लानर लक्ष्य के साथ बंधुआ।

 

हौहाई वैनेडियम स्पूटरिंग लक्ष्य में वैनेडियम अखंड चकमा देने वाला स्पूटरिंग लक्ष्य, वैनेडियम प्लंबर स्पूटरिंग लक्ष्य और वैनेडियम कैथोडिक लक्ष्य शामिल हैं।




वानडियम रोटरी (रोटेटबल, बेलरिड) स्पटरिंग लक्ष्य


विनिर्माण रेंज

आयुध डिपो (मिमी)

आईडी (मिमी)

लंबाई (मिमी)

विशेष रूप से निर्मित

50-300

30 - 280

100 - 4000


विशिष्टता

रचना

वी

पवित्रता

2 एन 5 (99.5%), 2 एन 7 (99.7%), 3 एन ( 99.9%), 3 एन 5 (99.95%), 4 एन (99.9 9%)

घनत्व

6.11 ग्राम / सेमी 3

अनाज आकार

<80 माइक्रोन="" या="" अनुरोध="">

निर्माण प्रक्रियाएं

वैक्यूम पिघलने, फोर्जिंग, एक्सट्रुडींग, मशीनिंग, बॉन्डिंग

आकार

सीधे, कुत्ते की हड्डी

अंतिम प्रकार

एससीआई, एसआरएफ, डीएसएफ़, आरएफएफ, डब्ल्यूएफएफ, वीए, बीकर्ट, जीपीआई एंड्स फिक्सेशन, सर्पिल ग्रूव,

विशेष रूप से निर्मित

सतह

रा 1.6 माइक्रोन


अन्य विशिष्टता

भाप degreased और अंतिम मशीनिंग के बाद demagnetized

To ओडी समकक्षता के लिए आईडी बैठक आवश्यकताओं को पूरा करने के लिए कच्ची ट्यूब का उत्पादन करने के बाद आईडी को पहचानना और ओडी भू-भाग होना चाहिए।

उच्च वैक्यूम तंग, किसी भी स्थान पर लीक दर 1 x 10 -8 एसटीडी सीसी / एसईसी से अधिक नहीं

In प्लास्टिक में मुहरबंद, फोम में लिपटे की रक्षा करने के लिए, और सील सतहों की रक्षा के लिए समाप्त होता है


सामान्य आकार

वानडियम रोटरी

Sputtering लक्ष्य

सामान्य आकार

80 मिमी आईडी x 100 मिमी आयुध डिपो एक्स

125 मिमी आईडी एक्स 153 मिमी ओडी एक्स 895 मिमी लम्बा

125 मिमी आईडी x 153 मिमी आयुध डिपो x 1172 मिमी लम्बी

125 मिमी आईडी x 153 मिमी आयुध डिपो एक्स 1290 मिमी लम्बा

125 मिमी आईडी एक्स 153 मिमी ओडी एक्स 1676 मिमी लम्बा

125 मिमी आईडी एक्स 153 मिमी ओडी एक्स 1 9 40 मिमी लम्बा

125 मिमी आईडी एक्स 153 मिमी आयुध डिपो x 2420 मिमी लम्बी

125 मिमी आईडी एक्स 153 मिमी आयुध डिपो एक्स 3191mm लम्बा

125 मिमी आईडी x 153 मिमी आयुध डिपो 3852 मिमी लंबे


टाइटेनियम प्लमर कॉन्फ़िगरेशन की तुलना में, हैहाई टाइटेनियम बेलनाकार स्पटरिंग लक्ष्य प्रदान करता है:

बड़ा इरोशन जोन जो सामग्री का उपयोग 2 से 2.5 गुना प्रदान करते हैं।

लंबे समय तक लक्ष्य जीवन जो परिवर्तनों और चैंबर रखरखाव के लिए डाउनटाइम की आवृत्ति कम करता है।

In अखंड, खंडित या थर्मल स्प्रे प्रारूपों में कस्टम विनिर्माण।

एंड फीचर जो कि व्यक्तिगत कैथोड सिस्टम डिज़ाइन के लिए सटीक हैं।

For बड़े क्षेत्र कोटिंग के संचालन के लिए स्वामित्व की लागत कम करें

Of सहित सामग्री की विविधता

इष्टतम अनाज का आकार और एकरूप माइक्रोस्ट्रक्चर जीवन के पूर्ण अंत के माध्यम से लगातार प्रक्रिया के प्रदर्शन को आश्वासन देता है।

पूर्ण एकरूपता और उच्च शुद्धता के स्तर लगातार कवरेज का उत्पादन करते हैं।

From आर एंड डी से पूर्ण पैमाने पर उत्पादन के लिए किसी भी आकार के संचालन के लिए सामग्री की आपूर्ति करने में सक्षम।




वानडियम प्लेंडर (आयत, परिपत्र) स्पूटरिंग लक्ष्य


विनिर्माण रेंज

आयत

लंबाई (मिमी)

चौड़ाई (मिमी)

मोटाई (मिमी)

विशेष रूप से निर्मित

10 - 2000

10 - 600

1.0 - 25

परिपत्र

व्यास (मिमी)


मोटाई (मिमी)

10 - 400


1.0 - 25

 

विशिष्टता

रचना

वी

पवित्रता

2 एन 5 (99.5%), 3 एन (99.9%), 3.5 एन (99.95%), 4 एन (99.9 9%)

घनत्व

6.11 ग्राम / सेमी 3

अनाज आकार

<80 माइक्रोन="" या="" अनुरोध="">

निर्माण प्रक्रियाएं

वैक्यूम पिघलने, फोर्जिंग, रोलिंग, मशीनिंग

आकार

प्लेट, डिस्क, स्टेप, डाउन बोल्ट, थ्रेडिंग, कस्टम मेड

प्रकार

मोनोलीथिक, मल्टी-सेग्मेंट्स टारगेट, बॉन्डिंग

सतह

रा 1.6 माइक्रोन या अनुरोध पर

 

अन्य निर्दिष्टीकरण

  बहु-खंड वाले निर्माण भागों में हम एक ही अनाज की दिशा सुनिश्चित करते हैं।

  सफ़लता, स्वच्छ सतह, पॉलिश, दरार, तेल, डॉट आदि से मुक्त




वैनेडियम आर्क कैथेडस

हम वैनेडियम रोटरी और प्लानर आर्क कैथोड्स के साथ ही वैनेडियम रोटरी और प्लानर स्पुतरिंग लक्ष्यों की आपूर्ति करते हैं




हमारे वानडियम स्पटरिंग लक्ष्य और आर्क कैथोड्स के लिए


सहनशीलता

एसीसी। चित्र या अनुरोध करने के लिए


अस्पष्ट सामग्री [पीपीएम]

वैनेडियम शुद्धता [%]

तत्वों

2N5

[99.5]

3N5

[99.95]

धातुई इम्पीरियटीज़ [μg / g]

अल

350

50

सीए

200

50

सीआर

100

50

Cu

50

50

फे

800

200

मो

500

130

एनआई

300

50

सी

800

150

Sn

100

30

ती

250

150

गैर धातुई इम्पीरियटीज़ [μg / g]

सी

150

50

हे

400

200

एच

30

20

एन

200

50

गारंटीकृत घनत्व [g / cm 3 ]

6.11

6.11

अनाज आकार [माइक्रोन]

80

80

थर्मल चालकता [डब्ल्यू / (एमके)]

30.7

30.7

थर्मल विस्तार का गुणांक [1 / के]

8.4 -6

8.4 -6


विश्लेषणात्मक तरीकों:

1. जीडीएमएस का उपयोग करके धातु के तत्वों का विश्लेषण किया गया है (जीएसडीएमएस माप की विशिष्टता और पूर्वाग्रह को एएसटीएम एफ 15 9 3 के तहत चर्चा की जाती है)।

2. लेको गैस विश्लेषक का उपयोग करके गैस के तत्वों का विश्लेषण किया गया।

दहन-एलआर द्वारा निर्धारित सी, एस

एन, एच IGF- टीसी द्वारा निर्धारित

ओ आईजीएफ-एनडीआईआर द्वारा निर्धारित


आवेदन

बड़े क्षेत्र ग्लास कोटिंग

इलेक्ट्रॉनिक्स उद्योग

Ear प्रतिरोधी कोटिंग पहनें

सजावटी कोटिंग



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